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膠帶基材薄膜表面改性技術(shù)

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時間:2019-04-23來源: 點擊:10825次

摘要:通過在膠帶基材的薄膜表面添加各種功能、且能適應特定應用的表面,可生產(chǎn)出具有多種特性的薄膜產(chǎn)品。具體來說有多種技術(shù),本文著重講下如何提高薄膜表面導電性:

通過在膠帶基材的薄膜表面添加各種功能、且能適應特定應用的表面,可生產(chǎn)出具有多種特性的薄膜產(chǎn)品。具體來說有多種技術(shù),本文著重講下如何提高薄膜表面導電性:

提高導電性技術(shù)

真空條件下,在膜表面形成導電性納米級薄膜的技術(shù),應用于柔性印制電路板、觸摸板透明導電薄膜等產(chǎn)品。


濺射沉積技術(shù) 
在氬氣中對目標施加高壓時,便會形成 Ar+ 和電子組成的等離子體。 Ar+ 在電場中加速,會對目標產(chǎn)生影響,最終噴射出目標物質(zhì)。 有些情況下,噴射出的原子會直接沉淀到基膜上,而另一些情況下,如果如氧氣等活性氣體混入氬氣中時,則會沉淀出包含目標物質(zhì)和氧氣的化合物。 ITO 透明導電膜便屬于后一種,通過補充 In2O3-SnO2 目標物質(zhì)中的氧氣(在分解過程中失去)形成。

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